[发明专利]干法清洗设备和干法清洗方法在审
| 申请号： | 201910515871.X | 申请日： | 2019-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN110890263A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 辛承敃;金石训;金伶厚;金仁基;金兑洪;朴晟见;李轸雨;车知勋;崔溶俊 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周泉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种干法清洗设备包括：腔室；基板支撑件，支撑腔室内的基板；喷头，布置在腔室的上部，以朝向基板供应干法清洗气体，喷头包括朝向基板支撑件的方向透射激光的光学窗口；等离子体发生器，被配置为从干法清洗气体产生等离子体；以及激光照射器，穿过光学窗口和等离子体在基板上照射激光，从而加热基板。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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