[发明专利]半导体结构和形成半导体结构的方法有效

专利信息
申请号: 201910517224.2 申请日: 2019-06-14
公开(公告)号: CN110610907B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 陈明发;陈宪伟;余振华 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/34 分类号: H01L23/34;H01L21/50;B81C1/00;B81B7/00
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 提供了集成电路封装件及其形成方法。方法包括形成第一管芯结构。第一管芯结构包括接合至载体的管芯堆叠件和堆叠的伪结构。形成第二管芯结构。第二管芯结构包括第一集成电路管芯。通过将管芯堆叠件的最顶集成电路管芯接合至第一集成电路管芯,将第一管芯结构接合至第二管芯结构。管芯堆叠件的最顶集成电路管芯是管芯堆叠件距离载体最远的集成电路管芯。对第一管芯结构实施分割工艺以形成多个单独的管芯结构。分割工艺将堆叠的伪结构分割成多个单独的堆叠的伪结构。本发明还涉及半导体结构和形成半导体结构的方法。
搜索关键词: 半导体 结构 形成 方法
【主权项】:
1.一种形成半导体结构的方法,包括:/n形成第一管芯结构,所述第一管芯结构包括接合至载体的第一管芯堆叠件和堆叠的伪结构;/n形成第二管芯结构,所述第二管芯结构包括第一集成电路管芯;/n通过将所述第一管芯堆叠件的最顶集成电路管芯接合至所述第一集成电路管芯,将所述第一管芯结构接合至所述第二管芯结构,所述第一管芯堆叠件的所述最顶集成电路管芯是所述第一管芯堆叠件距离所述载体最远的集成电路管芯;以及/n对所述第一管芯结构实施分割工艺以形成多个单独的管芯结构,其中,所述分割工艺将所述堆叠的伪结构分割成多个单独的堆叠的伪结构。/n
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