[发明专利]光学邻近修正模型的校正方法及其系统有效
| 申请号： | 201910525750.3 | 申请日： | 2019-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN112099316B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 朱继承;杜杳隽;陈权 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 高静;李丽 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学邻近修正模型的校正方法及其系统，校正方法包括：提供具有原始图形的版图以及初始掩膜图层；通过版图图形化初始掩膜图层，形成掩膜图层；掩膜图层中与原始图形相对应的为测量图形，测量图形具有特征尺寸；对测量图形依次进行第一测量和第二测量，分别获得第一测量特征尺寸和第二测量特征尺寸；通过第一测量特征尺寸以及第二测量特征尺寸，获得测量图形的实际尺寸；基于实际尺寸对光学邻近修正模型进行校正。与将一次测量测量图形得到的尺寸，作为测量图形的实际尺寸的情况相比，本发明获得测量图形的实际尺寸，基于实际尺寸对光学邻近修正模型进行校正，使得获得的误差函数更加准确，进而使得光学邻近修正模型更准确。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 修正 模型 校正 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910525750.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：车辆安全处理系统、方法及车辆
- 下一篇：管路消声器及包括其的冰箱
