[发明专利]等离子处理装置在审
| 申请号： | 201910529681.3 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110148549A | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 蔡卫;罗弦;卢永锦;史健勇;孙晓华 | 申请（专利权）人： | 深圳市诚峰智造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 林栋;任芹玉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。本发明的等离子处理装置可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。 | ||
| 搜索关键词： | 待处理产品 旋转件 固定机构 等离子处理装置 喷枪机构 吸附件 底座 可转动设置 转动轨迹 处理效率 固定设置 吸附 | ||
【主权项】：
1.一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，其特征在于，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。
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