[发明专利]一种曝光设备和曝光系统有效
| 申请号： | 201910531932.1 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110320761B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 向琛;陈轶 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 王云红;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光设备和曝光系统。曝光设备包括基座和位于所述基座上方用于承载基板的基台，其特征在于，所述曝光设备还包括设置在所述基座和所述基台之间、用于调节所述基台的曲率或/和温度的调节装置。该曝光设备，通过调节装置可以调节基台的曲率或/和温度，以使得基台表面的曲率与掩膜板的弯曲形变相一致，进而使得待曝光基板的曲率也会与掩膜板的弯曲形变相一致，使得不同位置的掩膜板下表面与基板上表面的间隙相一致；或/和，通过调节装置可以调节基台不同位置的温度，使得基板不同位置的温度保持一致，从而提高曝光基板不同位置的线宽均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 设备 系统 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，包括基座和位于所述基座上方用于承载基板的基台，其特征在于，所述曝光设备还包括设置在所述基座和所述基台之间、用于调节所述基台的曲率或/和温度的调节装置。
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