[发明专利]一种适合工业生产恩格列净的合成方法在审
| 申请号： | 201910535608.7 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110305118A | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 骆伟;辜天彬;杨成喜;王晶翼 | 申请（专利权）人： | 四川科伦药物研究院有限公司 |
| 主分类号： | C07D407/12 | 分类号： | C07D407/12 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 管高峰 |
| 地址： | 611138 四川省成都市海*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种适合工业化生产恩格列净的合成方法，将式(II)化合物经还原反应得到式(I)化合物，然后将式(I)化合物去除保护基制得。本发明采用的恩格列净合成方法工艺简单，只需一步还原反应，有效降低了高毒性、高危险性化学品的反复使用；另外，中间体采用衍生保护再纯化地方法，能有效地进行过程控制，提高了产品质量；具有较强的实际应用价值，适合工业生产。 | ||
| 搜索关键词： | 式( I ) 合成 化合物去除 高危险性 过程控制 还原反应 一步还原 高毒性 化学品 净合成 有效地 应用 | ||
【主权项】：
1.一种恩格列净的合成方法，将式(I)化合物去除保护基制得，其特征在于：式(I)化合物由式(II)化合物经还原反应得到；![]()
其中，R为羟基保护基，优选自乙酰基、苄基、苯甲酰基、特戊酰基和叔丁酰基中的一种；R1为C1‑4烷基，优选为甲基或乙基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川科伦药物研究院有限公司，未经四川科伦药物研究院有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910535608.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
