[发明专利]一种半导体设备工艺数据处理方法及系统在审

专利信息
申请号: 201910537181.4 申请日: 2019-06-20
公开(公告)号: CN110262914A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 张璐;董博宇;杨洋;张鹤南;郭冰亮;武学伟;宋玲彦 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: G06F11/00 分类号: G06F11/00;G06Q10/00;G06Q10/06
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种半导体设备工艺数据处理方法及系统,该方法包括:获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点;自所述最后时间点,向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点,并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据;根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算。通过本发明,提高了半导体设备关键工艺执行阶段的数据统计的可靠性以及准确性。
搜索关键词: 时间点 半导体设备 预处理数据 数据处理 开始时间点 工艺数据 数据统计 关键工艺 时间获得 预设
【主权项】:
1.一种半导体设备工艺数据处理方法,其特征在于,所述方法包括:获取最后一个工艺数据及其对应的最后时间点;自所述最后时间点,向前推进预设时间获得数据处理开始数据及其对应的开始时间点,并将所述开始时间点至所述最后时间点之间的所有工艺数据作为预处理数据;根据所述预处理数据及所述预处理数据对应的时间点进行数据统计计算。
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