[发明专利]掩膜板组件及其制备方法在审
| 申请号： | 201910544833.7 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110129722A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 杨博文;张文畅;万宝红;张忠忠;洪良;陈铖 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁;宋海斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种掩膜板组件及其制备方法。该掩膜板组件包括：框架和至少两个第一掩膜条；各第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间；每个第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。本申请实施例中的每个第一掩膜条的偏移量均在目标偏移范围内，在框架产生类平等四边形形变的情况下，所形成的掩膜板组件的整体形变减小，以减小或抵挡掉框架形变的影响，应用本申请实施例提供的掩膜板组件，可提高蒸镀单元的PPA，提升掩膜板组件的使用效果和产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 掩膜条 偏移量 偏移 形变 减小 制备 申请 边框 产品良率 整体形变 组件包括 蒸镀 抵挡 应用 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：框架和至少两个第一掩膜条；各所述第一掩膜条设置于所述框架的两个相对边框之间；每个所述第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。
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