[发明专利]一种高品质的钛基掺硼金刚石薄膜电极的制备工艺在审
| 申请号： | 201910548146.2 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN110184586A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 莫兰 | 申请（专利权）人： | 莫兰 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/02;C25D11/26 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 王闯 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种高品质的钛基掺硼金刚石薄膜电极的制备工艺，其具体步骤如下：(1)、清洗：对衬体进行清洗；(2)、喷丸处理：利用喷丸机对清洗后的衬体进行喷丸处理；(3)、电化学氧化：将喷丸后的衬体浸润在电解池中进行氧化处理；(4)、种金刚石晶种：将氧化后的衬体浸入掺硼金刚石晶种液中；(5)、化学气相沉积：将种金刚石晶种后的衬体放置于热丝CVD腔室中。该高品质的钛基掺硼金刚石薄膜电极的制备工艺大大降低金刚石电极生产成本，提高了金刚石薄膜与钛衬体之间的结合力，延长了使用寿命长，制造工艺简单的同时提高量产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 衬体 掺硼金刚石薄膜 制备工艺 电极 高品质 钛基 清洗 金刚石 喷丸处理 晶种 化学气相沉积 掺硼金刚石 电化学氧化 金刚石薄膜 金刚石电极 浸入 使用寿命 氧化处理 制造工艺 热丝CVD 电解池 结合力 晶种液 喷丸机 量产 喷丸 腔室 钛衬 生产成本 浸润 申请 | ||
【主权项】：
1.一种高品质的钛基掺硼金刚石薄膜电极的制备工艺，其特征在于，具体步骤如下：(1)、清洗：对衬体进行清洗；(2)、喷丸处理：利用喷丸机对清洗后的衬体进行喷丸处理；(3)、电化学氧化：将喷丸后的衬体浸润在电解池中进行氧化处理；(4)、种金刚石晶种：将氧化后的衬体浸入掺硼金刚石晶种液中进行种金刚石；(5)、化学气相沉积：将种金刚石后的衬体放置于热丝CVD腔室中进行化学气相沉积。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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