[发明专利]一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用在审
| 申请号： | 201910588275.4 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN110346960A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 刘雪 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用，包括以下步骤：步骤S1：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布光阻形成光阻层；步骤S2：在所述光阻层上形成光阻凹槽；步骤S3：将黑色矩阵光阻填充入所述光阻凹槽；步骤S4：对所述黑色矩阵光阻进行曝光得到黑色矩阵。本发明提供一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法，能够使得黑色矩阵线宽变细、锥角变高，满足高分辨率的需求，有助于提高产品开口率；另一方面由于减少了显影制程，使得方法操作简便，无制程难点，容易实现，并且减少了显影制程带来的锥角低或者发生底切以及剥落的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 黑色矩阵 玻璃基板 光阻 制程 制备 光阻层 显影 锥角 高分辨率 开口率 变细 底切 剥落 填充 应用 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布光阻形成光阻层；步骤S2：在所述光阻层上形成光阻凹槽；步骤S3：将黑色矩阵光阻填充入所述光阻凹槽；步骤S4：对所述黑色矩阵光阻进行曝光得到黑色矩阵。
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