[发明专利]一种甘露糖苷酶抑制剂Kifunensine的合成方法在审

专利信息
申请号: 201910590346.4 申请日: 2019-07-02
公开(公告)号: CN110256422A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 蔡岩;袁昊林;吴玉保;杨阳;郭宇;汪颖;赵佩佩;贺万丽 申请(专利权)人: 天津国际生物医药联合研究院
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 刘莹
地址: 300457 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种甘露糖苷酶抑制剂Kifunensine的合成方法廉价易得的L‑古洛糖酸‑γ‑内酯为起始原料,通过多步化学转化,高效地得到Kifunensine,反应整体收率较高,过程中使用的试剂廉价易得,且合成过程中多个步骤可以用一锅法投料,操作简便,具有较好的工业化前景。
搜索关键词: 甘露糖苷酶抑制剂 合成 古洛糖酸 合成过程 化学转化 起始原料 一锅法 内酯 收率 投料
【主权项】:
1.一种甘露糖苷酶抑制剂Kifunensine的合成方法,其特征在于:反应路径如下所示,反应包括如下步骤:(1).在酸催化下,对L‑古洛糖酸‑γ‑内酯的四个羟基进行缩酮保护得到中间体2;(2).在酸作用下,选择性脱去中间体2中的伯醇和仲醇上的缩酮保护,得到中间体3;(3).在碱作用下,选择性保护中间体3上的伯醇,得到中间体4;(4).在碱作用下,保护中间体4上剩余的仲醇从而形成离去基团,制备得到中间体5;(5).利用叠氮基团亲核进攻中间体5中的离去基团,制备得到中间体6;(6).在还原剂作用下,打开中间体6的糖环,制备得到中间体7;(7).在碱作用下,采用大位阻的酯类羟基保护基,选择性保护中间体7上的伯醇,得到中间体8;(8).选择性脱去中间体8中的一个伯醇的保护基,制备得到中间体9;(9).在酸催化下,对中间体9中的两个羟基进行缩酮保护得到中间体10;(10).在还原剂作用下,脱去中间体10中羟基的保护基,同时将叠氮基团还原为氨基,从而制备得到中间体11;(11).中间体11与草氨酸在缩合剂作用下反应得到中间体12;(12).在体系中有硅胶粉存在时,中间体12在氧化剂作用下氧化得到中间体13,之后关环得到中间体14,最后在酸性条件下脱去缩酮保护基得到Kifunensine。
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