[发明专利]一种基于双线性插值原理确定发射层析权重矩阵的方法有效
| 申请号： | 201910591999.4 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN110400253B | 公开（公告）日： | 2023-03-17 |
| 发明（设计）人： | 王佳;严静;吴慎将;聂亮;张维光;于洵 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G06T3/00 | 分类号： | G06T3/00 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于双线性插值原理确定发射层析权重矩阵的方法，首先获得发射层析的三维投影模型；然后将投影积分离散化表示；最后利用双线性插值原理确定层析系统的权重矩阵。本发明方法得到了用于准确描述发射层析投影的三维空间二维Radon变换模型，为三维层析重建提供了理论基础；该方法基于双线性插值原理确定权重矩阵的原理简单，计算效率高，可以快速获得权重矩阵数值；其计算结果精确度高，可以减少计算过程中的离散引起的干扰，大大增加计算结果的准确性；本发明方法不仅能够用于三维空间中的二维Radon变换，对于传统的二维层析技术中的权重矩阵计算同样适用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 双线 性插值 原理 确定 发射 层析 权重 矩阵 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于双线性插值原理确定发射层析权重矩阵的方法，其特征在于,首先获得发射层析的三维投影模型；然后将投影积分离散化表示；最后利用双线性插值原理确定层析系统的权重矩阵。
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