[发明专利]坩埚、蒸发源及蒸镀设备有效
| 申请号： | 201910593704.7 | 申请日： | 2019-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110195210B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 王选生;贾俊兰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;曹娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种坩埚、蒸发源及蒸镀设备，该坩埚包括坩埚本体和设置于所述坩埚本体上的喷嘴，其中，所述喷嘴包括：与所述坩埚本体固定连接的第一喷嘴层；第二喷嘴层，设置于所述第一喷嘴层内，且所述第二喷嘴层与所述第一喷嘴层之间具有间隔空间；其中，所述第二喷嘴层形成与所述坩埚本体的内部连通的围设空间；其中，所述围设空间为所述坩埚本体内蒸镀材料的输出通道。该坩埚通过设置双层的喷嘴，能够解决由于坩埚的喷嘴处输出的蒸镀材料的温度不均匀，造成喷嘴处容易堵塞材料，导致蒸镀过程所制成的膜厚均一性差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 蒸发 设备 | ||
【主权项】：
1.一种坩埚，包括坩埚本体和设置于所述坩埚本体上的喷嘴，其特征在于，所述喷嘴包括：与所述坩埚本体固定连接的第一喷嘴层；第二喷嘴层，设置于所述第一喷嘴层内，且所述第二喷嘴层与所述第一喷嘴层之间具有间隔空间；其中，所述第二喷嘴层形成与所述坩埚本体的内部连通的围设空间；其中，所述围设空间为所述坩埚本体内蒸镀材料的输出通道。
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