[发明专利]一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路有效

专利信息
申请号: 201910599805.5 申请日: 2019-07-04
公开(公告)号: CN110379449B 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 卢文娟;欧阳春;董兰志;彭春雨;吴秀龙;蔺智挺;陈军宁 申请(专利权)人: 安徽大学
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412;G11C11/417
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;郑哲
地址: 230601 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路,其整体结构采用了读写分离的方式,单元电路的主体采用TFET器件,传输管部分采用了TFET器件与MOSFET器件组合方式,既克服了堆叠TFET传输能力弱的缺点,又避免了TFET器件作SRAM单元传输管时出现的P‑I‑N正偏电流问题。提高了单元的写能力,降低了单元的静态功耗。
搜索关键词: 一种 具有 高写裕度 10 tfet mosfet 器件 混合 sram 单元 电路
【主权项】:
1.一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路,其特征在于,包括:六个NTFET晶体管、两个PTFET晶体管以及两个NMOSFET晶体管;六个NTFET晶体管依次记为N1~N6;两个PTFET晶体管分别记为P1与P2;两个NMOSFET晶体管分别记为N7与N8;其中:VDD和PTFET晶体管P1的源极以及PTFET晶体管P2的源极电连接;PTFET晶体管P1的漏极,与NTFET晶体管N1的漏极、NTFET晶体管N3的漏极、PTFET晶体管P2的栅极以及NTFET晶体管N2的栅极电连接;PTFET晶体管P2的漏极,与PTFET晶体管P1的栅极、NTFET晶体管N1的栅极、NTFET晶体管N6的栅极、NTFET晶体管N2的漏极以及NTFET晶体管N4的漏极电连接;NTFET晶体管N3的源极与NMOSFET晶体管N7的漏极电连接;NTFET晶体管N4的源极与NMOSFET晶体管N8的漏极电连接;NTFET晶体管N5的源极与NTFET晶体管N6的漏极电连接;NTFET晶体管N1的源极、NTFET晶体管N2的源极、NTFET晶体管N6的源极、NMOSFET晶体管N7的源极、以及NMOSFET晶体管N8的源极均与GND电连接。字线WL与NTFET晶体管N3的栅极、以及NTFET晶体管N4的栅极电连接;位线BL与NMOSFET晶体管N7的栅极电连接;位线BLB与NMOSFET晶体管N8的栅极电连接;读字线RWL与NTFET晶体管N5的栅极电连接;读位线RBL与NTFET晶体管N5的漏极电连接。
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