[发明专利]一种光罩有效
| 申请号： | 201910621137.1 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110333642B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 叶国梁;刘天建;占迪 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光罩，包括：有效区域与边缘区域，所述边缘区域位于所述有效区域部分侧边的边缘，在所述边缘区域与未设置所述边缘区域的有效区域内均设置有相间隔的当层对准精度图形，以用于量测相邻所述光罩的对准精度，使用该光罩，可以通过重复曝光，拼接成各种重复单元的超大尺寸图形，同时可以通过当层对准精度图形来量测每次曝光过程中相邻的光罩的位置对准精度，即提高了光罩在大尺寸工艺中的多样性，且可用于异形大尺寸芯片拼接精度测量，同时，由于边缘区域仅位于有效区域的部分侧边的边缘，减小了边缘区域在光罩中的使用面积，提高了光罩中的有效面积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 | ||
【主权项】：
1.一种光罩，其特征在于，包括：有效区域与边缘区域，所述边缘区域位于所述有效区域部分侧边的边缘，在所述边缘区域与未设置所述边缘区域的有效区域内均设置有相间隔的当层对准精度图形，以用于量测相邻所述光罩的对准精度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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