[发明专利]板式PECVD设备的质量流量计的标定方法有效
申请号: | 201910623690.9 | 申请日: | 2019-07-11 |
公开(公告)号: | CN110299300B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 赵环;张福庆;孙晓凯 | 申请(专利权)人: | 晶澳太阳能有限公司;合肥晶澳太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L31/18 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐颖聪 |
地址: | 055550 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明涉及板式PECVD设备的质量流量计的标定方法,板式PECVD设备包括质量流量计M1至Mn,其中,n为3以上的自然数,标定方法包括如下步骤:步骤S1,释放反应腔体中的气体,使板式PECVD设备的反应腔体中的压力稳定至P0;步骤S2,经由质量流量计M1向板式PECVD设备的反应腔体中通入预定流量的气体,待反应腔体中的压力稳定后记录反应腔体中的压力为P1;步骤S3,重复步骤S1和步骤S2,分别记录经由质量流量计M2至Mn向板式PECVD设备的反应腔体中通入预定流量的所述气体后反应腔体中的压力P2至Pn;步骤S4,根据所测得的P1至Pn确定需要更换的质量流量计并进行更换。本发明实施例的标定方法较为准确的判断出异常的质量流量计并进行更换,保证了镀膜效果,且操作简单方便。 | ||
搜索关键词: | 板式 pecvd 设备 质量 流量计 标定 方法 | ||
【主权项】:
1.一种板式PECVD设备的质量流量计的标定方法,所述板式PECVD设备包括质量流量计M1至Mn,其中,n为3以上的自然数,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1,释放反应腔体中的气体,使所述板式PECVD设备的所述反应腔体中的压力稳定至P0;步骤S2,经由所述质量流量计M1向所述板式PECVD设备的反应腔体中通入预定流量的气体,待所述反应腔体中的压力稳定后记录所述反应腔体中的压力为P1;步骤S3,重复所述步骤S1和所述步骤S2,分别记录经由所述质量流量计M2至Mn向所述板式PECVD设备的反应腔体中通入所述预定流量的所述气体后所述反应腔体中的压力P2至Pn;步骤S4,根据所测得的P1至Pn确定需要更换的质量流量计并进行更换。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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