[发明专利]掩模结构及其制造方法及工作件加工系统在审
| 申请号： | 201910634823.2 | 申请日： | 2019-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN110783493A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 林进志;陈裕宏;辛孟鸿 | 申请（专利权）人： | 永恒光实业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;C23C14/04 |
| 代理公司： | 11592 北京天驰君泰律师事务所 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本揭露涉及掩模结构及其制造方法及工作件加工系统。一种掩模结构包括衬底、第一图案化金属层以及第二图案化金属层。衬底具有第一表面和与第一表面相对的第二表面。第一图案化金属层设置在衬底的第一表面上，具有复数个第一开口，第一开口具有第一侧壁。第二图案化金属层设置在衬底的第二表面上，具有复数个第二开口，第二开口具有第二侧壁。衬底具有复数个通孔，通孔具有第三侧壁，通孔对应第一开口和第二开口设置，且第三侧壁与第一侧壁和第二侧壁构成连续平面。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 图案化金属层 开口 第一表面 复数 通孔 第二表面 第二侧壁 第三侧壁 第一侧壁 掩模结构 加工系统 开口设置 连续平面 工作件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种掩模结构，其特征在于，所述掩模结构包括：/n衬底，具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；/n第一图案化金属层，设置在所述衬底的所述第一表面上，具有复数个第一开口，所述第一开口具有第一侧壁；及/n第二图案化金属层，设置在所述衬底的所述第二表面上，具有复数个第二开口，所述第二开口具有第二侧壁；/n其中所述衬底具有复数个通孔，所述通孔具有第三侧壁，所述通孔对应所述第一开口和所述第二开口设置，且所述第三侧壁与所述第一侧壁和所述第二侧壁构成连续平面。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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