[发明专利]一种适于切花菊热处理茎尖脱毒组培基质及方法有效

专利信息
申请号: 201910637895.2 申请日: 2019-07-15
公开(公告)号: CN110741930B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 郭方其;吴超;袁峰;黑银秀;柴金甫;刘君;丁晓瑜;徐智豪;黎侠 申请(专利权)人: 浙江省农业科学院
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310021 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种适于菊花热处理茎尖脱毒组培基质及方法、属于植物培育栽培技术领域,组培基质由分阶段依次顺序使用的诱导培养基组合、脱毒茎尖诱导培养基组合、壮苗培养与增殖培养基组合、生根培养基组合组成:诱导培养基组合由依次顺序使用的外植体诱导培养基、外植体初代诱导培养基、外植体诱导培养基组成;脱毒茎尖诱导培养基组合由依次顺序使用的外植体诱导培养基、茎尖诱导培养基Ⅰ、茎尖诱导培养基Ⅱ组成、壮苗培养与增殖培养基组合:其包括依次顺序使用的壮苗培养基和增殖培养基;本发明解决因长期的无性繁殖,导致植株体内病毒的大量积累,引起菊花品种退化和生长势减弱,影响切花品质,同时种苗无法高效大规模化生产的问题。
搜索关键词: 一种 适于 切花 热处理 脱毒 基质 方法
【主权项】:
1.一种适于切花菊热处理茎尖脱毒组培基质,其特征在于,所述组培基质由分阶段依次顺序使用的诱导培养基组合、脱毒茎尖诱导培养基组合、壮苗培养与增殖培养基组合、生根培养基组合组成:/n所述诱导培养基组合由依次顺序使用的外植体诱导培养基、外植体初代诱导培养基、外植体诱导培养基组成;/n所述脱毒茎尖诱导培养基组合由依次顺序使用的外植体诱导培养基、茎尖诱导培养基Ⅰ、茎尖诱导培养基Ⅱ组成;/n壮苗培养与增殖培养基组合:其包括依次顺序使用的壮苗培养基和增殖培养基。/n
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