[发明专利]一种纳米压印模板及其制备方法在审
| 申请号： | 201910639799.1 | 申请日： | 2019-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN110361930A | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 谭伟;刘震;郭康;谷新 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李欣 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种纳米压印模板及其制备方法，用以提高纳米压印模板抗形变的能力。本申请实施例提供的一种纳米压印模板，所述纳米压印模板包括：柔性基板，位于所述柔性基板之上的通过第一贴合胶与柔性基板粘结的对位功能层，以及位于所述对位功能层之上的粘结层；所述对位功能层具有对位标记图案。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米压印模板 柔性基板 功能层 对位 制备 对位标记 抗形变 贴合胶 粘结层 粘结 申请 图案 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模板，其特征在于，所述纳米压印模板包括：柔性基板，位于所述柔性基板之上的通过第一贴合胶与柔性基板粘结的对位功能层，以及位于所述对位功能层之上的粘结层；所述对位功能层具有对位标记图案。
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