[发明专利]共聚物和相关层状制品，以及器件形成方法在审
| 申请号： | 201910653956.4 | 申请日： | 2016-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN110204666A | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | J·W·萨克莱;K·杜;P·特雷福纳斯三世;I·布莱基;A·K·惠特克 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司;昆士兰大学 |
| 主分类号： | C08F283/06 | 分类号： | C08F283/06;C08F220/14;C08F220/22;G03F7/20;C09D151/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张佳鑫;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过使包括紫外光吸收型单体以及碱溶解度增强型单体的单体聚合来制备共聚物。所述共聚物适用于形成电子束以及远紫外平版印刷术用的面涂层。还描述包括所述面涂层的层状制品以及形成电子器件的相关方法。 | ||
| 搜索关键词： | 层状制品 共聚物 面涂层 电子束 平版印刷术 制备共聚物 紫外光吸收 单体聚合 电子器件 碱溶解度 器件形成 远紫外 增强型 | ||
【主权项】：
1.一种形成电子器件的方法，所述方法包含：(a)在基板上涂覆光阻层；(b)在所述光阻层上涂覆包含共聚物的面涂层；(c)使所述光阻层直到所述面涂层逐图案曝露于活化辐射；以及(d)使所述的所曝光光阻层显影以提供抗蚀剂浮雕影像；其中所述共聚物包含单体聚合产物，所述单体包含∶频带外吸收型单体；以及碱溶解度增强型单体；以及其中由所述共聚物铸成的膜在150纳米到400纳米范围内的波长下具有0.1到0.5的消光系数k。
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