[发明专利]一种原子层沉积系统

摘要

本发明涉及原子层沉积技术领域，特别是涉及一种原子层沉积系统。本发明所提供的原子层沉积系统包括流体源引入管道、反应装置和第一调控装置，反应装置包括反应装置本体、反应装置流体引入管道和反应装置流体引出管道，第一调控装置包括第一调控装置本体、第一调控装置流体引入管道和第一调控装置流体引出管道，反应装置流体引入管道和第一调控装置流体引入管道均与流体源引入管道流体连通。本发明所提供的原子层沉积系统有利于三维钝体表面生长过程中层流条件的建立、空气动力学界面层分离的抑制、以及镀膜过程的迅速完成，并能够节约原子层沉积原料2倍以上，且可实现快速镀膜。

主权项

1.一种原子层沉积系统，其特征在于，所述原子层沉积系统包括流体源引入管道(3)、反应装置(1)和第一调控装置(2)，所述反应装置(1)包括反应装置本体(11)、用于将流体源引入反应装置本体(11)的反应装置流体引入管道(12)和用于将流体引出反应装置本体(11)的反应装置流体引出管道(13)，所述第一调控装置(2)包括第一调控装置本体(21)、用于将流体源引入第一调控装置本体(21)的第一调控装置流体引入管道(22)和用于将流体引出第一调控装置本体(21)的第一调控装置流体引出管道(23)，所述反应装置流体引入管道(12)和第一调控装置流体引入管道(22)均与流体源引入管道(3)流体连通，还包括至少一个反应源供应装置(4)，所述反应源供应装置(4)包括反应源阵列(41)、用于将含有反应源的流体引出反应源阵列(41)的反应源阵列流体引出管道(42)，所述反应源流体引出管道(42)与反应装置本体(11)流体连通。