[发明专利]光罩台车改进结构在审
申请号: | 201910691439.6 | 申请日: | 2019-07-29 |
公开(公告)号: | CN110297390A | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 苏顺森 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F7/20;G02F1/13;B62B3/04;B62B5/04 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;刘巍 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光罩台车改进结构。该种光罩台车改进结构包括:台车本体,设于台车本体上部用于盛放光罩的光罩盒,设于台车本体上部用于接触挤压光罩盒以限制光罩盒相对台车本体的位置的限位块,设于台车本体底部的脚刹,设于台车本体下部的传感器透光孔;所述台车本体上部在限位块旁边还设有用于固定光罩盒位置的定位装置。本发明的光罩台车改进结构能够有效避免台车因为机械臂取放光罩时台车或光罩的移位导致整个曝光机宕机。 | ||
搜索关键词: | 台车本体 改进结构 光罩台车 光罩盒 限位块 光罩 台车 定位装置 机械臂 曝光机 透光孔 传感器 移位 脚刹 盛放 宕机 挤压 | ||
【主权项】:
1.一种光罩台车改进结构,其特征在于,包括:台车本体,设于台车本体上部用于盛放光罩的光罩盒,设于台车本体上部用于接触挤压光罩盒以限制光罩盒相对台车本体的位置的限位块,设于台车本体底部的脚刹,设于台车本体下部的传感器透光孔;所述台车本体上部在限位块旁边还设有用于固定光罩盒位置的定位装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910691439.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备