[发明专利]清洗槽及干式清洗装置在审
| 申请号： | 201910695309.X | 申请日： | 2019-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN112296016A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 吉田正洋;易云;龙志钊;吉野悟志 | 申请（专利权）人： | 理光高科技（深圳）有限公司;雷欧电子株式会社 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 谢辰 |
| 地址： | 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供清洗槽及干式清洗装置。该清洗槽用于干式清洗装置，该干式清洗装置利用气体使清洗介质在清洗槽内飞散而使清洗介质碰撞清洗对象来去除附着在清洗对象上的污垢，清洗槽形成为具有一定长度的槽状，清洗槽具有与用于清洗介质与清洗对象碰撞的开口，在与开口相对的一侧设有用于气体喷出到清洗槽内的气体喷出口，清洗槽的与长度方向垂直的截面形状为四边形以上的多边形。由此，在获得较高清洗能力的同时清洗槽的制造变得容易，成本降低。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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