[发明专利]一种纳米压印模板及其制作方法在审
| 申请号： | 201910703828.6 | 申请日： | 2019-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110244510A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 刘震;谷新;郭康;张笑 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李欣 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种纳米压印模板及其制作方法，用于降低纳米压印过程中压印模版对位标记与压印基板对位标记对位失败的概率。其中的纳米压印模板包括：柔性衬底；位于所述柔性衬底上的刚性衬底；固定在所述刚性衬底远离所述柔性衬底一侧的软模版，其中，所述软模版背离所述刚性衬底的一侧具有设定图案以及多个对位标记。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 纳米压印模板 对位标记 模版 纳米压印 压印基板 对位 中压 制作 背离 图案 概率 失败 申请 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：柔性衬底；位于所述柔性衬底上的刚性衬底；固定在所述刚性衬底远离所述柔性衬底一侧的软模版，其中，所述软模版背离所述刚性衬底的一侧具有设定图案以及多个对位标记。
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