[发明专利]半导体基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910724774.1 申请日: 2019-08-07
公开(公告)号: CN112349701A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L21/311
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 230001 安徽省合肥市蜀山*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种半导体基板及其制备方法,所述制备方法包括如下步骤:提供衬底,所述衬底包括功能区及测量区;采用相同工艺步骤在所述衬底的功能区形成至少一功能膜层,在所述测量区形成至少一测量膜层,在俯视方向上,所述测量膜层被划分为至少一测量单元,所述测量单元的形状为多边形,所述多边形的内角大于90度。本发明在制备半导体基板的工艺中,在测量区域形成多边形的测量单元,该形状的测量单元的受力力矩小,不易脱落,不会成为缺陷源,从而避免测量单元影响制程质量以及半导体基板的最终良率;同时,多边形的测量单元的应力分布相对更均匀,结构更加稳定。
搜索关键词: 半导体 及其 制备 方法
【主权项】:
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