[发明专利]一种耐久性高方阻金属化薄膜在审

专利信息
申请号: 201910728921.2 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN110444398A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 宋仁祥 申请(专利权)人: 安徽省宁国市海伟电子有限公司
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33;H01G4/005;H01G4/008
代理公司: 合肥东信智谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34143 代理人: 凌云
地址: 242300 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种耐久性高方阻金属化薄膜,包括绝缘基膜,所述绝缘基膜的正反两面均设置有复合镀层,所述复合镀层包括设置在绝缘基膜表面的铜镀层,所述铜镀层的表面设置有铝镀层,所述铝镀层的表面设置有树脂涂层。所述耐久性高方阻金属化薄膜与传统金属化薄膜相比,其耐久性好,不易氧化,容易储存,方阻高,抗电强度不会下降,电容器的自愈能力提高,增加电容的安全可靠性;其卷制的电容器卷芯体积减小,可以用于生产体积小额定电压高的电容器。
搜索关键词: 方阻 金属化薄膜 绝缘基膜 电容器 表面设置 复合镀层 铝镀层 铜镀层 安全可靠性 电容器卷芯 传统金属 树脂涂层 体积减小 正反两面 自愈能力 体积小 电容 卷制 薄膜 储存 生产
【主权项】:
1.一种耐久性高方阻金属化薄膜,包括绝缘基膜,所述绝缘基膜的正反两面均设置有复合镀层,其特征在于:所述复合镀层包括设置在绝缘基膜表面的铜镀层,所述铜镀层的表面设置有铝镀层,所述铝镀层的表面设置有树脂涂层。
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