[发明专利]光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，包括：提供目标光刻图形，所述目标光刻图形包括相邻的第一子目标光刻图形和第二子目标光刻图形；对所述目标光刻图形进行第一光学邻近修正，得到与所述目标光刻图形对应的第一修正图形，以及与所述第一修正图形对应的第一模拟光刻图形；当所述第一修正图形的修正最小间距等于最小预设距离，且所述第一模拟光刻图形的第一边缘放置误差和第二边缘放置误差中的一者或两者大于或等于预设边缘放置误差时，对所述第一修正图形进行第二修正。以所述光学邻近修正方法得到的修正图形形成的光刻图形效果好。

主权项

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供目标光刻图形，所述目标光刻图形包括相邻的第一子目标光刻图形和第二子目标光刻图形；对所述目标光刻图形进行第一光学邻近修正，得到与所述目标光刻图形对应的第一修正图形，以及与所述第一修正图形对应的第一模拟光刻图形，所述第一修正图形包括与所述第一子目标光刻图形对应的第一子修正图形及与所述第二子目标光刻图形对应的第二子修正图形，所述第一子修正图形和所述第二子修正图形间具有修正最小间距，所述第一模拟光刻图形包括与所述第一子修正图形对应的第一子模拟光刻图形以及与所述第二子修正图形对应的第二子模拟光刻图形，所述第一子模拟光刻图形具有第一边缘放置误差，所述第二子模拟光刻图形具有第二边缘放置误差；当所述修正最小间距等于最小预设距离，且所述第一边缘放置误差和第二边缘放置误差中的一者或两者大于或等于预设边缘放置误差时，对所述第一修正图形进行第二修正。