[发明专利]传片系统及光刻机有效

专利信息
申请号: 201910756610.7 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN110436203B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 齐兆宇 申请(专利权)人: 吉林华微电子股份有限公司
主分类号: B65G51/01 分类号: B65G51/01;B65G13/00;B65G39/02;G03F7/20
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 张洋
地址: 132013 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供了一种传片系统及光刻机,涉及光刻机的技术领域,包括传送轨道和预对准机构;传送轨道两侧边缘设有贴片,贴片配置成传送过程中避免被加工工件与传送轨道的工作面摩擦;预对准机构包括分别位于传送轨道两侧的驱动导轮和预对准定位轮,驱动导轮上设有第一导轮槽,驱动导轮配置成与预对准定位轮配合抵接被加工工件,且驱动卡入第一导轮槽内的被加工工件旋转。本发明的目的在于提供一种传片系统及光刻机,以缓解了现有技术中存在的硅片关键区域划伤的技术问题。
搜索关键词: 系统 光刻
【主权项】:
1.一种传片系统,其特征在于,包括:传送轨道(100)和预对准机构(200);所述传送轨道(100)两侧边缘设有贴片(110),所述贴片(110)配置成传送过程中避免被加工件与所述传送轨道(100)的工作面摩擦;所述预对准机构(200)包括分别位于所述传送轨道(100)两侧的驱动导轮(210)和预对准定位轮(220),所述驱动导轮(210)上设有第一导轮槽(211),所述驱动导轮(210)配置成与所述预对准定位轮(220)配合抵接所述被加工件,且驱动卡入所述第一导轮槽(211)内的所述被加工件旋转。
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