[发明专利]防反射膜、防反射膜的制造方法、光学构件及图像显示装置有效
申请号: | 201910758363.4 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN110895356B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 桥本尚树;茂手木佑辅;济木雄二 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/14;G02F1/1335;H01L27/32 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供耐擦伤性优异的防反射膜。其特征在于,在透光性基材(A)的至少一个面上以下述顺序层叠有硬涂层(B)及防反射层(C),构成防反射层(C)的元素至少包含碳及氟,通过X射线光电分光法而测定的防反射层(C)的原子数在与硬涂层(B)相反侧的表面满足下述数学式(1)及(2),并且在距离上述表面的深度为15~30nm的范围内满足下述数学式(3),7≤[(n |
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搜索关键词: | 反射 制造 方法 光学 构件 图像 显示装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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