[发明专利]垂直型存储器装置在审

专利信息
申请号: 201910763298.4 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110943090A 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 朴株院;朴庆晋 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11582;H01L27/11524;H01L27/11556
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅;陈晓博
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种垂直型存储器装置,所述垂直型存储器装置包括:多个栅电极层,彼此分隔开并堆叠在基底上,并且在第一方向上以不同长度延伸且形成阶梯结构;第一层间绝缘层,覆盖所述多个栅电极层的阶梯结构;以及多个栅极接触插塞,贯穿第一层间绝缘层并且分别接触栅电极层。所述多个栅电极层包括与基底相邻设置的下栅电极层和设置在下栅电极层上的上栅电极层,使得下栅电极层位于基底与上栅电极层之间。所述多个栅极接触插塞包括连接到下栅电极层的下栅极接触插塞和连接到上栅电极层的上栅极接触插塞。上栅极接触插塞具有设置在比下栅极接触插塞的顶表面的高度高的高度处的最顶部部分。
搜索关键词: 垂直 存储器 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910763298.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top