[发明专利]提供光刻系统射线的设备在审
| 申请号： | 201910773199.4 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110865517A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 廖启宏;杨岳霖 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;付文川 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种提供光刻系统射线的设备。本文描述的实施例提供了一种光刻系统，具有两个或两个以上的光刻机台，连接到使用两个或两个以上的可变衰减单元的射线源。在一些实施例中，可变衰减单元将接收光束的一部分反射到附接到其上的光刻机台，并将接收光束的剩余部分传输到下游的光刻机台。在一些实施例中，射线源包括两个或两个以上的激光源，以提供具有增强的功率水平的激光束，并且可以防止由于激光源维护以及修理的操作中断。 | ||
| 搜索关键词： | 提供 光刻 系统 射线 设备 | ||
【主权项】：
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