[发明专利]最小化半导体图案中光学邻近校正误差的方法及设备在审
| 申请号： | 201910777531.4 | 申请日： | 2019-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN111061130A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 申武俊;朴庆宰 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邵亚丽 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于最小化半导体图案中的光学邻近校正误差的方法。该方法包括以量化单元修改掩模，以减小模拟布局形状和目标布局形状之间的边缘放置误差；通过以预定单元进一步修改掩模的至少一侧，调整模拟布局形状的临界尺寸(CD)和目标布局形状的CD之间的CD误差以生成调整后的CD误差；以及通过用任意校正值修改掩模的每一侧来重新形成模拟布局形状。 | ||
| 搜索关键词： | 最小化 半导体 图案 光学 邻近 校正 误差 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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