[发明专利]一种负性光刻胶显影液在审
| 申请号： | 201910780345.6 | 申请日： | 2019-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN110647018A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 梁小朝;连杰;姚浩川;黄德新 | 申请（专利权）人： | 合肥中聚合臣电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 231600 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种负性光刻胶显影液，由有机碱、表面活性剂和水各原料比例混合而成，所述各原料重量比为：有机碱5～20％，表面活性剂1～15％，余量的水，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四甲基铵碳酸(氢)盐中的任意一种或几种，所述表面活性剂为非离子型表面活性剂，非离子型表面活性剂选用烷基酚聚氧乙烯醚，非离子型表面活性剂经过蓖麻油聚氧乙烯醚混合处理，处理方法为使用蓖麻油聚氧乙烯醚与非离子型表面活性剂一同送入配料釜中进行搅拌。本发明中，在制成显影液后，对显影液进行微米级别的过滤，过滤去除大量金属离子杂质，避免了金属离子杂质对基板密集线路以及晶体管的不利影响，保证了基板与晶体管的正常使用。 | ||
| 搜索关键词： | 非离子型表面活性剂 表面活性剂 显影液 有机碱 蓖麻油聚氧乙烯醚 金属离子杂质 晶体管 过滤 离子型表面活性剂 烷基酚聚氧乙烯醚 四甲基氢氧化铵 四乙基氢氧化铵 负性光刻胶 原料重量比 混合处理 密集线路 四甲基铵 微米级别 对基板 配料釜 碳酸 基板 与非 去除 送入 保证 | ||
【主权项】：
1.一种负性光刻胶显影液，其特征在于,由有机碱、表面活性剂和水各原料比例混合而成，所述各原料重量比为：有机碱5～20％，表面活性剂1～15％，余量的水。/n
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