[发明专利]一种通孔的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910795486.5 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN110519917B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 徐世明;王健;金慧贞;孙彬;沈洪;李晓华 申请(专利权)人: 江苏上达电子有限公司
主分类号: H05K1/11 分类号: H05K1/11;H05K3/42
代理公司: 徐州市三联专利事务所 32220 代理人: 张帅
地址: 221000 江苏省徐州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种通孔的制造方法,属于印刷电路板技术领域。包括:在绝缘薄膜的两面涂布光刻胶,对涂布光刻胶的绝缘薄膜进行两面曝光、显影,对显影后的绝缘薄膜进行两面蚀刻,形成凹型槽,对蚀刻后的绝缘薄膜两面涂布光刻胶,对涂布光刻胶的薄膜进行曝光、显影,对经过二次曝光显影的绝缘薄膜进行两面蚀刻,形成阶梯状的通孔,对两面涂布有光刻胶且具有阶梯状的通孔的绝缘薄膜进行去膜处理,对去膜的绝缘薄膜进行镀铜,完成电镀,形成阶梯通孔。本发明的有益效果是:避免出现的断针、钻偏等现象;减少钻孔会产生的残胶或铜渣;两面同时进行蚀刻,保证孔的质量;阶梯孔的形成,有利于后续镀铜时电镀液的循环,从而能够更好的保证孔铜的质量。
搜索关键词: 一种 制造 方法
【主权项】:
1.一种通孔的制造方法,其特征在于,包括:/n步骤1:在绝缘薄膜(1)的两面涂布光刻胶Ⅰ(2);/n步骤2:对涂布光刻胶Ⅰ(2)的绝缘薄膜(1)进行两面曝光、显影;/n步骤3:对显影后的绝缘薄膜(1)进行两面蚀刻,形成凹型槽(3);/n步骤4:对蚀刻后的绝缘薄膜(1)两面涂布光刻胶Ⅱ(4);/n步骤5:对涂布光刻胶Ⅱ(4)的薄膜进行曝光、显影;/n步骤6:对经过二次曝光显影的绝缘薄膜(1)进行两面蚀刻,形成阶梯状的通孔(5);/n步骤7:对两面涂布有光刻胶且具有阶梯状的通孔(5)的绝缘薄膜(1)进行去膜处理;/n步骤8:对去膜的绝缘薄膜(1)进行镀铜,完成电镀,形成阶梯通孔(6)。/n
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