[发明专利]一种光学邻近效应修正方法在审
申请号: | 201910797126.9 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN110501870A | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 黄双龙;倪凌云;黄增智;夏睿 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 31291 上海立群专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 杨楷;毛立群<国际申请>=<国际公布>= |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种光学邻近效应修正方法,包括:筛选步骤,筛选出第一类型边缘线,其中,第一类型边缘线包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段,第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合,所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角;量测步骤,获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值;计算步骤,以预先设定的边缘放置误差的取值方式,计算第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差;修正步骤,根据计算步骤中确定的边缘放置误差,对第一类型边缘线进行修正;其中,第二片段的边缘放置误差的取值方式与第一片段、第三片段保持相同,由此减少了光学邻近效应修正的时间。 | ||
搜索关键词: | 边缘放置误差 边缘线 光学邻近效应修正 计算步骤 拐角 筛选 修正 参考位置 依次连接 量测 内角 平角 外角 样本 | ||
【主权项】:
1.一种光学邻近效应修正方法,其特征在于,包括:/n筛选步骤,筛选出第一类型边缘线,其中,所述第一类型边缘线为具有三个片段的边缘线,所述三个片段包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段,所述第一片段和所述第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合,所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角;/n量测步骤,获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值;/n计算步骤,以预先设定的边缘放置误差的取值方式,计算所述第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差,其中,取值方式是指,根据所述片段端点的拐角类型,从多个边缘放置误差样本值中选取作为边缘放置误差的统计值的选取方式;/n修正步骤,根据所述计算步骤中确定的所述边缘放置误差,对所述第一类型边缘线进行修正;/n其中,所述第一片段和所述第三片段的边缘放置误差的取值方式根据该片段的两端点的拐角类型确定,所述第二片段的边缘放置误差的取值方式与所述第一片段、所述第三片段保持相同。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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