[发明专利]一种微偏振片模板制作方法在审
| 申请号： | 201910798261.5 | 申请日： | 2019-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN110568720A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 周倩;倪凯;晁银银;白本锋;汪伟奇;李星辉;王晓浩 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B5/30 |
| 代理公司： | 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 洪铭福 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微偏振片模板的制作方法，包括：S1：在基底一侧的表面设置第一光刻胶层；S2：制作掩膜版；S3：利用所述掩膜版对所述第一光刻胶层进行接触曝光；S4：在所述第一光刻胶层远离所述基底的一侧的表面涂覆第二光刻胶层；S5：利用全息光刻对所述第二光刻胶层进行曝光并显影；S6：在所述第二光刻胶层远离所述底板一侧表面上沉积金属层；S7：将所述第一光刻胶层、所述第二光刻胶层剥离，得到所述微偏振片模板。本发明公开的微偏振片模板的制作方法避免了电子束直写曝光制作周期长且设备使用费昂贵问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶层 微偏振片 掩膜版 基底 制作 电子束直写曝光 底板 沉积金属层 表面设置 表面涂覆 接触曝光 制作周期 全息 光刻 显影 剥离 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种微偏振片模板的制作方法，其特征在于，包括：/nS1：在基底一侧的表面上设置第一光刻胶层；/nS2：制作掩膜版；/nS3：利用所述掩膜版对所述第一光刻胶层进行接触曝光；/nS4：在所述第一光刻胶层远离所述基底的一侧的表面上设置第二光刻胶层；/nS5：对所述第二光刻胶层进行曝光并显影；/nS6：在所述第二光刻胶层远离所述基底一侧表面上沉积金属层；/nS7：将所述第一光刻胶层、所述第二光刻胶层剥离，得到所述微偏振片模板。/n
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