[发明专利]掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法在审
| 申请号： | 201910801463.0 | 申请日： | 2019-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN112501558A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 牛彤;嵇凤丽;吴建鹏;杜森 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;G06F30/20;G06F30/392 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 颜镝;王莉莉 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法。掩膜版包括：图案区域和位于所述图案区域的边缘的第二肋，图案区域包括：多个开口，相邻的开口通过第一肋隔开；其中，所述多个开口中的至少一个开口具有非平直的侧边、与所述非平直的侧边相交的两个第一平直侧边和位于所述非平直的侧边的对侧、且与所述第一平直侧边相交的第二平直侧边，在所述第二肋上设有用于对所述非平直的侧边进行拉伸变形补偿的开孔，所述两个第一平直侧边沿第一方向向所述第二肋延伸的延伸线与所述第二肋相交得到第一区域，所述开孔至少位于所述第一区域内，所述第一方向与所述第一平直侧边平行，与所述第一方向垂直的第二方向与所述第二平直侧边平行。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 装置 设计 优化 方法 | ||
【主权项】：
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