[发明专利]包括互补金属氧化物半导体晶体管的集成电路器件在审

专利信息
申请号: 201910807532.9 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN111223854A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 宋在俊 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/092
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 陈亚男;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了包括互补金属氧化物半导体晶体管的集成电路器件。所述集成电路器件包括:基底,包括第一导电型区域和第二导电型区域;第一有源区,布置在第二导电型区域中;第二有源区,布置在第一导电型区域中并且与第一有源区分隔开,并且隔离区位于第二有源区与第一有源区之间;隔离膜,形成在隔离区中;以及第一场切割区,在与第一有源区上的第一导电型晶体管和第二有源区上的第二导电型晶体管中的每个的沟道长度方向平行的第一方向上沿隔离区延伸。
搜索关键词: 包括 互补 金属 氧化物 半导体 晶体管 集成电路 器件
【主权项】:
暂无信息
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