[发明专利]一种下渗深度深的涂抹水纹图案瓷质砖及其制备方法在审
申请号: | 201910808434.7 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN110357431A | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 汪成东;饶平根;黎友海;胡刚勇;孙本勇;黄雪娟 | 申请(专利权)人: | 广东天弼陶瓷有限公司 |
主分类号: | C03C8/00 | 分类号: | C03C8/00;C04B41/89;C04B41/52;B28B11/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 唐善新 |
地址: | 511533 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种下渗深度深的涂抹水纹图案瓷质砖及其制备方法;制备方法先进行微粉二次布料;一次压制成型,形成底料层与面料层,经干燥后制得微粉坯;进行抛坯处理;喷墨打印;用机械臂控制涂抹画笔进行预设水纹图案的绘制,设置重复绘画次数,多次精准绘图;干燥后进行烧成,抛光。本发明可设置重复绘画次数,增加图案线条的墨水量,从而增加墨水下渗深度。水纹图案与喷墨打印图案相互融合、相互映衬,且在烧成过程中不会烧失,水纹图案及颜色都得以保留,烧成后采用碳化硅抛光磨块进行抛光,抛光厚度大,抛光后表面平整,光滑如镜面,无水波纹产生,即得下渗深度深的涂抹水纹图案瓷质砖。 | ||
搜索关键词: | 水纹图案 抛光 下渗 涂抹 瓷质砖 烧成 制备 喷墨打印 微粉 一次压制成型 机械臂控制 二次布料 抛光磨块 抛坯处理 图案线条 绘画 镜面 波纹 底料层 后表面 面料层 墨水量 碳化硅 重复 烧失 无水 预设 光滑 绘图 画笔 墨水 平整 绘制 图案 融合 保留 | ||
【主权项】:
1.一种下渗深度深的涂抹水纹图案瓷质砖的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)微粉二次布料;(2)一次压制成型,形成底料层与面料层,经干燥后制得微粉坯;(3)对微粉坯进行抛坯处理,控制抛坯厚度为0.2~0.5mm;(4)将经抛坯处理的微粉坯进行喷墨打印;(5)利用涂抹画笔对步骤(4)所得的墨水打印面进行预设图案的绘制,涂抹画笔笔头材质选用海绵、排刷和毛笔笔毛中的多种,利用不同材质的笔头和不同颜色的墨水得到线条粗细不同、线条形式不同和颜色不同的涂抹效果,设置重复绘画次数为2‑5次,增加墨水下渗深度;控制涂抹画笔墨水输入速度范围是0.2~10ml/s,控制涂抹画笔墨水下渗深度为0.6~1.2mm;(6)干燥后进行烧成,所述的干燥的温度为40~120℃,干燥的时间为20‑60min,干燥后控制画笔涂抹墨水下渗深度为0.8mm以上,经碳化硅抛光磨块抛光,得到下渗深度深的涂抹水纹图案瓷质砖。
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