[发明专利]极紫外光微影收集器的清洁方法在审
| 申请号： | 201910814730.8 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110874024A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;林进祥;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： |
一种极紫外光微影收集器的清洁方法包含对极紫外光辐射源反应室中的极紫外光微影收集器的表面施加清洁化合物，极紫外光微影收集器具有残余物在收集器的表面上。清洁化合物包含：具25>δ |
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| 搜索关键词： | 紫外光 收集 清洁 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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