[发明专利]掩膜版有效
| 申请号： | 201910822447.X | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110423983B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 杜帅;冯宏庆;郑勇;丁文彪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区；掩膜图案区与非掩膜图案区的分界为非直线型几何图形，几何图形向掩膜图案区凹陷；非掩膜图案区内设置有固定区，固定区用于固定掩膜版，几何图形位于固定区的相对面。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，包括掩膜图案区以及位于所述掩膜图案区四周的非掩膜图案区，其特征在于，所述掩膜图案区与所述非掩膜图案区的分界为非直线型几何图形，所述几何图形向所述掩膜图案区凹陷；所述非掩膜图案区内设置有固定区，所述固定区用于固定所述掩膜版，所述几何图形位于所述固定区的相对面。
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