[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效
| 申请号： | 201910822551.9 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110871153B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 西冈贤太郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇;宋晓宝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置，具有充裕时间且在喷嘴单元的前方侧检测基板上的异物或基板的表面的隆起等基板的异常部位。该装置从喷嘴喷出处理液并使具有该喷嘴的喷嘴单元相对于基板相对移动来向基板供给处理液，在与喷嘴的长度方向正交的行进方向上设置在喷嘴单元的前方侧的异常检测机构具有多个检测部，多个检测部在长度方向上隔着异常检测区域相对配置的投光器及受光器之间照射激光光线，通过多个检测部分别在不同的有效检测范围检测异常，多个检测部以多条激光光线中的接近激光光线与行进方向倾斜地交叉的方式配置，接近激光光线部分地通过接近喷嘴单元的喷嘴接近区域，接近激光光线的有效检测范围相比喷嘴接近区域更靠近行进方向的前方侧。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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