[发明专利]清洗方法及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201910830384.2 | 申请日： | 2019-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN111105973A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 岩野光纮;细谷正德 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;B08B7/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 示例性实施方式所涉及的清洗方法中，在等离子体处理装置的腔室内，由清洗气体形成等离子体。聚焦环以绕腔室的中心轴线延伸的方式在腔室内搭载于基板支承座上。在等离子体的形成中，通过电磁铁在腔室内形成磁场分布。磁场分布相对于中心轴线，在径向上的聚焦环上的位置或比聚焦环更靠外侧的位置具有最大水平成分。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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