[发明专利]图案描绘装置有效
申请号: | 201910841697.8 | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN110596888B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B26/12 | 分类号: | G02B26/12;G03F7/20;G03F7/24;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘金凤;赵燕力 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的光束扫描装置(MD),是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描,其具备:射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系统(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系统(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40),该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。 | ||
搜索关键词: | 图案 描绘 装置 | ||
【主权项】:
1.一种图案描绘装置,一边基于与在基板上待描绘的图案相应的描绘资料将作为点光被投射于该基板表面的来自光源装置的光束进行强度调变、一边使该点光在该基板上在与主扫描方向和副扫描方向相对地进行二维扫描,将该图案描绘于该基板,其具备:/n入射光学构件,接收基于该描绘资料而强度调变后的描绘用的光束;/n扫描用偏向构件,使来自该入射光学构件的该描绘用的光束为了进行向该主扫描方向的一维扫描而偏向;/n投射光学系,使经偏向的该描绘用的光束入射而作为该点光投射于该基板上;/n支承架,将该入射光学构件、该扫描用偏向构件及该投射光学系作为光束扫描单元一体地支承;/n旋转支承机构,将该支承架以能绕与该基板表面的法线平行的第1旋转中心轴旋转的状态,支承于装置本体;以及/n光导入光学系,以入射至该入射光学构件的该描绘用的光束的入射轴与该第1旋转中心轴在既定容许范围内成为同轴的方式,将该描绘用的光束导向该入射光学构件。/n
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