[发明专利]一种双电流偏置的CMOS伪电阻在审

专利信息
申请号: 201910854145.0 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN110752834A 公开(公告)日: 2020-02-04
发明(设计)人: 刘帘曦;陈明仑;华天源;张怡;朱樟明 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H03H11/46 分类号: H03H11/46
代理公司: 61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种双电流偏置的CMOS伪电阻,包括第一PMOS管、第二PMOS管、第一NMOS管、第二NMOS管和缓冲器,其中,第一PMOS管的漏极连接其栅极,衬底连接其源极,栅极连接第二PMOS管的栅极,源极连接第一NMOS管的源极;第二PMOS管的衬底连接其源极,漏极连接第二NMOS管的源极,源极作为CMOS伪电阻的第一端;第一NMOS管的漏极连接其栅极,衬底连接其源极,栅极连接第二NMOS管的栅极;第二NMOS管的衬底连接其源极,漏极作为CMOS伪电阻的第二端;缓冲器的同相输入端连接第二PMOS管的源极,反相输入端连接第一PMOS管的源极,输出端连接第一NMOS管的源极。本发明的双电流偏置的CMOS伪电阻的阻值基本不受工艺、温度变化、亚阈值泄露电流的影响,鲁棒性较好。
搜索关键词: 源极 伪电阻 衬底 漏极 缓冲器 电流偏置 栅极连接 反相输入端 输出端连接 同相输入端 泄露电流 源极连接 第一端 鲁棒性
【主权项】:
1.一种双电流偏置的CMOS伪电阻,其特征在于,包括第一PMOS管(M
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