[发明专利]一种塑件表面处理方法有效
| 申请号： | 201910858869.2 | 申请日： | 2019-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN110699634B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 方立锋;周宝聪;徐家荣;苏振华 | 申请（专利权）人： | 神通科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/20;C23C14/35;C25D9/04 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 叶绍华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及塑件加工领域，尤其涉及一种塑件表面处理方法。其具体包括：以塑件为基材，在基材表面涂覆光固化涂料，并照射固化形成基底膜；利用磁控溅射镀的方式在基材的基底膜上制备形成Al晶籽层；将基材浸渍于硅前驱体液中，电沉积生长硅阵列；将基材置于修饰液中静置，对硅阵列进行修饰，即完成对塑件的表面处理。本发明整体制备过程基本无污染，不排放有毒气体、有毒废液等，且电沉积过程不引入金属离子，更加清洁环保；制备难度低，对设备无特殊需求，利于实现并方便实现产业化生产；通过对表面镀层进行修饰处理，能够实现对塑件表面的功能化处理，使得塑件具备良好的疏水性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种塑件表面处理方法，其特征在于，/n所述方法包括以下步骤：/n1）以塑件为基材，在基材表面涂覆光固化涂料，并照射固化形成基底膜；/n2）利用磁控溅射镀的方式在基材的基底膜上制备形成Al晶籽层；/n3）将基材浸渍于硅前驱体液中，电沉积生长硅阵列；/n4）将基材置于修饰液中静置，对硅阵列进行修饰，即完成对塑件的表面处理。/n
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