[发明专利]一种抛光垫的修整装置及修整方法有效

专利信息
申请号: 201910865033.5 申请日: 2019-09-09
公开(公告)号: CN110625528B 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 赵晟佑 申请(专利权)人: 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017;B24B53/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 710000 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供一种抛光垫的修整装置及修整方法,修整装置包括:修整器,所述修整器包括呈圆柱状的修整器主体以及开设于所述修整器主体的修整面上的修整槽,所述修整槽包括圆环形槽和位于所述圆环形槽围合区域内的十字槽,所述十字槽的四端均与所述圆环形槽连通。根据本发明实施例的修整装置及修整方法,通过在修整器的修正面上开设修整槽,可有效将抛光垫上残留的颗粒杂质进行刮除并改善抛光垫表面的平坦度,从而防止硅片在抛光过程中发生划伤、造成硅片报废的现象,确保了硅片的抛光质量。
搜索关键词: 一种 抛光 修整 装置 方法
【主权项】:
1.一种抛光垫的修整装置,其特征在于,包括:/n修整器,所述修整器包括呈圆柱状的修整器主体以及开设于所述修整器主体的修整面上的修整槽,所述修整槽包括圆环形槽和位于所述圆环形槽围合区域内的十字槽,所述十字槽的四端均与所述圆环形槽连通。/n
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