[发明专利]一种调整光栅刻刀方位角的方法有效
| 申请号： | 201910887109.4 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110579827B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 糜小涛;张善文;齐向东;林雨;江思博;周敬萱;于宏柱;于海利 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 田媛媛 |
| 地址： | 130033 吉林省长春市*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种调整光栅刻刀方位角的方法，包括：利用光栅刻刀在基底上划刻刻线；利用形貌扫描仪对刻线进行扫描，得到刻线的截面图；根据截面图计算与刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积；根据第一隆起面积、第二隆起面积、隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表得到光栅刻刀的当前方位角；判断当前方位角是否满足光栅刻刀方位角要求，若否，对光栅刻刀的方位角进行调整。本申请公开的上述技术方案，通过第一隆起面积、第二隆起面积及关系表实现定量化地获取到光栅刻刀的当前方位角，并根据当前方位角对光栅刻刀的方位角进行调整，以提高光栅刻刀方位角判断和调整的准确性，提高光栅刻刀方位角调整的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调整 光栅 刻刀 方位角 方法 | ||
【主权项】：
1.一种调整光栅刻刀方位角的方法，其特征在于，包括：/n预先根据光栅刻刀方位角要求对光栅刻刀的方位角进行调整，将所述光栅刻刀安装在划刻机中，并利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线；/n利用形貌扫描仪对所述刻线进行扫描，以得到所述刻线的截面图；/n根据所述截面图计算与所述刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积；/n将所述第一隆起面积、所述第二隆起面积与预先建立起的隆起面积和光栅刻刀方位角之间的关系表进行对照，通过所述关系表得到所述光栅刻刀的当前方位角；/n判断所述当前方位角是否满足所述光栅刻刀方位角要求，若否，则根据所述当前方位角及所述光栅刻刀方位角要求对所述光栅刻刀的方位角进行调整，并返回执行所述利用所述光栅刻刀在基底上划刻刻线的步骤，直至所述当前方位角满足所述光栅刻刀方位角要求为止。/n
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