[发明专利]喷头组件、沉积设备及沉积方法在审
| 申请号： | 201910888433.8 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110656317A | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 马春龙;罗兴安 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/40;C23C16/50;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11270 北京派特恩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李洋;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种喷头组件、沉积装置及沉积方法，其中，所述喷头组件包括：第一喷头，呈环形，用于与第一工艺气体的供应系统的输出口连接，并将所述第一工艺气体输出至待处理对象的第一区域；第二喷头，用于与第二工艺气体的供应系统的输出口连接，并将所述第二工艺气体输出至所述待处理对象的第二区域；其中，所述第一喷头的形状与所述待处理对象的形状相匹配，所述第一区域包围所述第二区域，所述待处理对象距离所述第一喷头的喷嘴端比所述第二喷头的喷嘴端近。 | ||
| 搜索关键词： | 喷头 处理对象 工艺气体 第二区域 第一区域 供应系统 喷头组件 喷嘴端 输出口 沉积装置 输出 沉积 匹配 包围 申请 | ||
【主权项】：
1.一种喷头组件，其特征在于，包括：/n第一喷头，呈环形，用于与第一工艺气体的供应系统的输出口连接，并将所述第一工艺气体输出至待处理对象的第一区域；/n第二喷头，用于与第二工艺气体的供应系统的输出口连接，并将所述第二工艺气体输出至所述待处理对象的第二区域；/n其中，所述第一喷头的形状与所述待处理对象的形状相匹配，所述第一区域包围所述第二区域，所述待处理对象距离所述第一喷头的输出端比所述第二喷头的输出端近。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司，未经长江存储科技有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910888433.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：夹具及具有其的镀膜设备
- 下一篇：一种模块化密封式空间隔离原子层沉积薄膜设备
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
