[发明专利]管式沉积设备有效
| 申请号： | 201910894525.7 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110468391B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 王祥;彭海;陆勇;胡海明;费红才;袁刚;胡兵;奚明 | 申请（专利权）人： | 理想晶延半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/52;C23C16/54;C23C16/513 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201620 上海市松*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种管式沉积设备，包括管式沉积腔体、收容于所述管式沉积腔体的载片单元和旋转驱动部。所述管式沉积设备包括所述旋转驱动部，且所述旋转驱动部驱动所述管式沉积腔体或所述载片单元旋转，使得所述载片单元无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能够使两个所述待处理表面中的任意一个或两个处于待镀状态，简化了工艺流程，提高了生产效率并降低了运营成本，避免了由于在所述管式沉积腔体外进行硅片的重复装片而影响良率的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 | ||
【主权项】：
1.一种管式沉积设备，包括管式沉积腔体以及收容于所述管式沉积腔体的载片单元，所述管式沉积腔体由第一端面、第二端面以及位于所述第一端面和所述第二端面之间的筒形侧面围成，其特征在于，所述管式沉积设备还包括旋转驱动部，所述旋转驱动部驱动所述管式沉积腔体或所述载片单元旋转。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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